A.VlPtf為0.04mm·s B.PⅡ、PⅢ、PavF/P>0.25mV C.波形態(tài)圓鈍 D.PⅡ、PⅢ、PavF有切跡 E.P波的時(shí)限<0.1ls
A.冷熱刺激 B.電活力測試 C.X線片檢查 D.麻醉法測驗(yàn) E.染色法測驗(yàn)
A.0.6:1000 B.1.6:1000 C.2.6:1000 D.1.0:1000 E.2.0:1000
A.1.0mm B.2.0mm C.3.0mm D.4.0mm E.5.0mm
A.使用的合金與瓷材料的匹配 B.金屬內(nèi)冠的表面形態(tài) C.操作過程中對瓷粉的污染 D.燒結(jié)次數(shù)的增加 E.瓷構(gòu)筑的順序