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高純硅制備過程為()→()→()→()→()。
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氧化硅;粗硅;低純四氯化硅;高純四氯化硅;高純硅
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晶體中的缺陷包括()、()、()、()等四種。
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點(diǎn)缺陷;線缺陷;面缺陷;體缺陷
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集成電路制作工藝大體上可以分成三類,包括()、()、()。
答案:
圖形轉(zhuǎn)化技術(shù);薄膜制備技術(shù);摻雜技術(shù)
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