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電子束光刻主要用于制作掩膜。
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電子束可以通過(guò)磁透鏡聚焦,并靠偏轉(zhuǎn)線圈實(shí)現(xiàn)小角度的偏轉(zhuǎn),擴(kuò)大加工區(qū)域。
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判斷題
電子束加工必須在真空條件下進(jìn)行。
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