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顯像時(shí)發(fā)現(xiàn)清洗不足,可以重新清洗顯像。
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防止過(guò)清洗的一個(gè)辦法是將背景保持在一定水準(zhǔn)上。
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環(huán)境溫度低于標(biāo)準(zhǔn)溫度時(shí),可以將工件加熱到標(biāo)準(zhǔn)溫度,然后進(jìn)行滲透檢測(cè)。
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