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單項選擇題
本裝置在低壓（0.35MPa）下氧化，氣流速度（），對鉑網沖刷作用小，鉑耗（）。
A.低；低
B.高；高
C.低；高
D.高；低
A.低；低
B.高；高
C.低；高
D.高；低
