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單項選擇題
硅-二氧化硅系統(tǒng)中含有的最主要而對器件穩(wěn)定性影響最大的離子是()。
A.鈉
B.鉀
C.氫
D.硼
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單項選擇題
二氧化硅生長過程中,當分凝系數(shù)小于1時,會使二氧化硅-硅界面處硅一側(cè)的雜質(zhì)濃度()。
A.降低
B.增加
C.不變
D.先降低后增加
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單項選擇題
表示雜質(zhì)在硅-二氧化硅界面處重新分布的性質(zhì)和程度,習慣上常用()。
A.分凝度
B.固溶度
C.分凝系數(shù)
D.擴散系數(shù)
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