單項(xiàng)選擇題

下頜舌側(cè)牙槽嵴形態(tài)為斜坡型者，舌桿應(yīng)（）

A.與黏膜接觸或離開(kāi)黏膜0.3mm～0.4mm，并與牙槽嵴平行
B.與黏膜平行，不接觸，離開(kāi)黏膜3～4mm
C.與黏膜平行，并緊密接觸
D.與黏膜垂直，并離開(kāi)少許
E.以上都不對(duì)

你可能感興趣的試題

單項(xiàng)選擇題

可摘局部義齒模型設(shè)計(jì)的目的不是確定（）

A.基牙的分布
B.卡環(huán)的類型
C.義齒的就位道
D.義齒的支持類型
E.基托伸展的范圍

單項(xiàng)選擇題

間接固位體與游離端基托位于支點(diǎn)線的（）

A.同側(cè)，距支點(diǎn)線越遠(yuǎn)對(duì)抗轉(zhuǎn)動(dòng)的力越強(qiáng)
B.同側(cè)，距支點(diǎn)線越近對(duì)抗轉(zhuǎn)動(dòng)的力越強(qiáng)
C.兩側(cè)，距支點(diǎn)線越遠(yuǎn)對(duì)抗轉(zhuǎn)動(dòng)的力越強(qiáng)
D.兩側(cè)，距支點(diǎn)線越近對(duì)抗轉(zhuǎn)動(dòng)的力越強(qiáng)
E.兩側(cè)，距支點(diǎn)線越遠(yuǎn)對(duì)抗轉(zhuǎn)動(dòng)的力越弱

下頜舌側(cè)牙槽嵴形態(tài)為斜坡型者，舌桿應(yīng)（）

你可能感興趣的試題

可摘局部義齒模型設(shè)計(jì)的目的不是確定（）

間接固位體與游離端基托位于支點(diǎn)線的（）

下頜舌側(cè)牙槽嵴形態(tài)為斜坡型者，舌桿應(yīng)（）