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問答題
【簡答題】
若計劃用圖示中掩膜版上黑色區(qū)域在硅片上制作擴散區(qū)，光刻時需要使用哪種光刻膠？為什么？并簡介光刻操作流程。
答案：
負膠；負膠的非爆光區(qū)被腐蝕掉，用來做擴散區(qū)。
光刻流程：底膜處理→涂膠→前烘→曝...
光刻流程：底膜處理→涂膠→前烘→曝...
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問答題
【簡答題】
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答案：
1）原因：正膠的曝光區(qū)和負膠的非曝光區(qū)的光刻膠在顯影液中溶解，而正膠的非曝光區(qū)和負膠的曝光區(qū)的光刻膠則不會在顯影液中溶解...
