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下述IC工廠外部振源各種傳播途徑中,正確的是()。
A.外部振源→主體結(jié)構(gòu)→地基基礎(chǔ)→精密設(shè)備
B.外部振源→精密設(shè)備→主體結(jié)構(gòu)→地基基礎(chǔ)
C.外部振源→地基基礎(chǔ)→主體結(jié)構(gòu)→精密設(shè)備
D.外部振源→精密設(shè)備→地基基礎(chǔ)→主體結(jié)構(gòu)
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深冷精餾法空氣分離設(shè)備中的高壓設(shè)備是()。
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B.液氧貯罐
C.氧氣緩沖罐
D.灌瓶裝置
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