<dl id="hv91a"><rp id="hv91a"><dfn id="hv91a"></dfn></rp></dl>

<dl id="hv91a"><label id="hv91a"><thead id="hv91a"></thead></label></dl>

單項選擇題

下圖屬于什么光刻機？（）

A.接觸式光刻機
B.步進掃描光刻機
C.分布重復(fù)光刻機
D.接近式光刻機

你可能感興趣的試題

單項選擇題

對于0.25um及以下的隔離技術(shù)采用以下（）方式。

A.局部氧化隔離
B.PN結(jié)隔離
C.PN結(jié)-介質(zhì)隔離
D.淺槽隔離

單項選擇題

WCVD工藝第一步是（）。

A.浸潤
B.成核
C.BULK
D.直接反應(yīng)

<tfoot id="abf7w"><pre id="abf7w"><big id="abf7w"></big></pre></tfoot>

<samp id="abf7w"><acronym id="abf7w"></acronym></samp>