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根據(jù)一維的散料層中還原過程數(shù)學(xué)模型的計(jì)算結(jié)果,還原劑H
2
的最佳比例僅為10%。
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內(nèi)擴(kuò)散控制下反應(yīng)界面的推進(jìn)速度表現(xiàn)為:開始時(shí)很慢,然后迅速遞增,到一定還原度后幾乎停滯。
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高爐生產(chǎn)實(shí)際中,礦石在低溫區(qū)停留的時(shí)間較長可以使間接還原發(fā)展到最佳比例值。
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