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    磺酸鹽裝置工藝空氣露點(diǎn)過高會導(dǎo)致()

    A.三氧化硫冷卻器處產(chǎn)酸量增多
    B.三氧化硫冷卻器處產(chǎn)酸量減少
    C.產(chǎn)品中無機(jī)鹽含量增多
    D.產(chǎn)品中無機(jī)鹽含量減少

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      磺酸鹽裝置工藝空氣露點(diǎn)控制可采取的途徑包括()

      A.調(diào)節(jié)空氣冷卻器出口處工藝空氣溫度
      B.調(diào)節(jié)再生冷卻、再生加熱溫度,保證干燥器再生效果
      C.提高工藝空氣流量
      D.增大主風(fēng)機(jī)出口處工藝空氣壓強(qiáng)

    • 多項選擇題

      以下對磺化反應(yīng)過程產(chǎn)生的頭尾酸描述正確的是()

      A.頭尾酸主要成分是硫酸
      B.頭尾酸對人皮膚具有強(qiáng)烈的腐蝕、灼傷危害
      C.頭尾酸屬于不合格產(chǎn)品
      D.頭尾酸可以與合格磺酸混合

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