半導(dǎo)體材料章節(jié)練習(xí)(2018.03.20)
來源:考試資料網(wǎng)1.名詞解釋集電結(jié)電容充電時間
參考答案:
隨發(fā)射極電流變化,B-C結(jié)空間電荷區(qū)和集電區(qū)-襯底結(jié)空間電荷區(qū)寬度發(fā)生變化的時間常數(shù)。
3.名詞解釋等離子體
4.問答題何謂歐姆接觸?
6.名詞解釋異質(zhì)結(jié)
參考答案:兩種不同的半導(dǎo)體材料接觸形成的結(jié)。
8.問答題光刻的本質(zhì)是什么?
參考答案:
光刻就是將掩膜版(光刻版)上的幾何圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體襯底表面的對光輻照敏感的薄膜材料(光刻膠)上去的工藝過程。
9.名詞解釋亞閾值導(dǎo)電
參考答案:
當(dāng)晶體管柵偏置電壓低于閾值反型點時,MOSFET中的導(dǎo)電過程。
10.名詞解釋體電荷效應(yīng)
參考答案:
由于漏源電壓改變而引起的沿溝道長度方向上的空間電荷寬度改變所導(dǎo)致的漏電流偏離理想情況。
